粒度粒形檢測(cè)儀粒度粒形顆粒測(cè)試技術(shù)進(jìn)展

　　粒度粒形檢測(cè)儀粒度粒形顆粒測(cè)試技術(shù)進(jìn)展
　　
　　粒度粒形檢測(cè)儀主要特點(diǎn)：
　　
　　精心設(shè)計(jì)的進(jìn)樣裝置易于拆卸、方便清洗
　　
　　專(zhuān)為大顆粒設(shè)計(jì)的樣品輸送系統(tǒng)無(wú)損耗
　　
　　*的光路設(shè)計(jì)確保聚焦精度，并可消除小顆粒邊緣效應(yīng)
　　
　　通過(guò)高分辨CMOS得到高清晰顆粒圖像
　　
　　粒度粒形檢測(cè)儀粒度粒形顆粒測(cè)試技術(shù)進(jìn)展
　　
　　近年來(lái)粒度粒形顆粒測(cè)試技術(shù)進(jìn)展很快，表現(xiàn)在以下幾個(gè)方面：
　　
　　1)粒度粒形檢測(cè)儀激光粒度測(cè)試技術(shù)更加成熟，激光衍射/散射技術(shù)，現(xiàn)在已經(jīng)成為顆粒測(cè)試的主流.其主要特點(diǎn)：測(cè)試速度快，重復(fù)性好，分辨率高，測(cè)試范圍廣得到了進(jìn)一步的發(fā)揮.激光粒度分析技術(shù)zui近幾年的主要進(jìn)展在于提高分辨率和擴(kuò)大測(cè)量范圍.探測(cè)器尺寸增加，附加探頭的使用擴(kuò)大了測(cè)量范圍;多種激光光源的使用、多鏡頭、會(huì)聚光路、多量程、可移動(dòng)樣品窗的使用提高了分辨率，采樣速度的提高則進(jìn)一步改善了儀器的重復(fù)性.目前激光粒度分析儀在技術(shù)上，已經(jīng)達(dá)到了相當(dāng)成熟的階段.
　　
　　米氏理論模型可以提高儀器的分辨率，但是需要事先了解被測(cè)樣品的折射率和吸收系數(shù)，才可能獲得正確的結(jié)果.
　　
　　測(cè)試結(jié)果的優(yōu)劣不僅取決于測(cè)試系統(tǒng)和計(jì)算模型，更加取決于樣品的分散狀態(tài).粒度粒形檢測(cè)儀對(duì)樣品的分散要求是，分散而不分離.儀器廠家應(yīng)更加注意樣品分散系統(tǒng)設(shè)計(jì).盡量避免小顆粒團(tuán)聚，大顆粒沉降，大小顆粒離析，樣品輸運(yùn)過(guò)程的損耗，外界雜質(zhì)的侵入.對(duì)于不同樣品選用不同的分散劑和不同的分散操作應(yīng)該引起測(cè)試者的注意.
　　
　　任何原理的儀器測(cè)試范圍都不是可以無(wú)限擴(kuò)展的.靜態(tài)光散射原理的激光粒度分析向納米顆粒的擴(kuò)展和向毫米方向的擴(kuò)展極限值得探討.毫米級(jí)的顆粒只需光學(xué)成像技術(shù)就可以輕易解決的測(cè)量問(wèn)題采用激光散射原理則并不是優(yōu)勢(shì)所在.